??? 全球半導(dǎo)體行業(yè)先進(jìn)制造設(shè)備領(lǐng)先廠商諾發(fā)" title="諾發(fā)">諾發(fā)系統(tǒng)有限公司 (Nasdaq 股票代碼：NVLS)，宣布舉辦第一屆復(fù)旦" title="復(fù)旦">復(fù)旦－諾發(fā)國際銅互連技術(shù)" title="互連技術(shù)">互連技術(shù)研討會(huì)最佳研究生論文競賽。?
??? 由復(fù)旦－諾發(fā)互連研究中心贊助的最佳研究生論文競賽將在復(fù)旦－諾發(fā)國際銅互連技術(shù)研討會(huì)期間舉行，此項(xiàng)每年春季舉行的競賽將為在校研究生、研究人員以及全球半導(dǎo)體專業(yè)人士提供一個(gè)討論新型的、令人振奮的半導(dǎo)體制造技術(shù)" title="制造技術(shù)">制造技術(shù)的平臺(tái)。同時(shí)，此次競賽也標(biāo)志著該研討會(huì)將進(jìn)入第五屆。?
??? 入選文章作者將獲得相應(yīng)獎(jiǎng)勵(lì)：獎(jiǎng)項(xiàng)共設(shè)金獎(jiǎng)一名、銀獎(jiǎng)兩名、銅獎(jiǎng)三名。?
復(fù)旦－諾發(fā)互連研究中心此次舉辦的2008 年研討會(huì)最佳研究生論文競賽的參賽領(lǐng)域包括：?
?? ·?半導(dǎo)體制造和互連工藝中的新技術(shù)；?
?? · Cu/Low k 集成技術(shù)；?
?? ·?面向45nm及以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)的PVD/CVD/ALD擴(kuò)散阻擋層和銅籽晶層；?
?? ·?CMP材料和制造技術(shù)；?
?? ·?干法工藝（溝槽結(jié)構(gòu)和雙鑲嵌工藝，干法刻蝕工藝，等離子體造成的損傷，等）?
?? ·?先進(jìn)介質(zhì)材料（低介電常數(shù)" title="介電常數(shù)">介電常數(shù)介質(zhì)，高介電常數(shù)介質(zhì)，抗反射薄膜等）以及薄膜淀積工藝進(jìn)展；?
?? ·?先進(jìn)電鍍技術(shù)；?
?? ·?金屬化的可靠性研究；?
?? ·?先進(jìn)圖像轉(zhuǎn)移技術(shù)。?
??? 諾發(fā)公司同中國大學(xué)的合作及其對中國微電子學(xué)教育的支持可以回溯至 2003 年，就在這一年，諾發(fā)公司向復(fù)旦大學(xué)捐贈(zèng)了一套銅半導(dǎo)體制造設(shè)備，并且建立了復(fù)旦－諾發(fā)互連研究中心進(jìn)行互連技術(shù)的研究。除研究和教學(xué)以外，從2004年起，該中心還成功地在復(fù)旦大學(xué)舉辦每年一次的復(fù)旦－諾發(fā)國際銅互連技術(shù)研討會(huì)。?
關(guān)于復(fù)旦大學(xué)微電子學(xué)院
??? 于2002年成立于復(fù)旦大學(xué)微電子學(xué)院 (SME)是復(fù)旦大學(xué)歷史悠久的微電子學(xué)專業(yè)和固態(tài)電子學(xué)專業(yè)的強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合。復(fù)旦大學(xué)微電子學(xué)在過去的二十年中取得了巨大的進(jìn)步，并于 1988 年成為國家重點(diǎn)學(xué)科。1992 年，該學(xué)科建立起了 ASIC & System 國家重點(diǎn)試驗(yàn)室。自組建以來，復(fù)旦大學(xué)微電子學(xué)院已經(jīng)取得了諸多成就，并發(fā)展成為一所優(yōu)秀的教育和研究機(jī)構(gòu)，在很多領(lǐng)域都擁有豐富的經(jīng)驗(yàn)，例如：SoC 設(shè)計(jì)、IC CAD、新型半導(dǎo)體制造技術(shù)、結(jié)構(gòu)和器件以及微電子機(jī)械系統(tǒng)。?
關(guān)于諾發(fā)公司
??? 諾發(fā)系統(tǒng)有限公司（Nasdaq股票代碼：NVLS）是全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體工藝設(shè)備供應(yīng)商。通過創(chuàng)新性新技術(shù)的開發(fā)和值得信賴的高生產(chǎn)效率的支持，該公司的產(chǎn)品能夠?yàn)榭蛻籼峁┳畲蟮膽?yīng)用價(jià)值。諾發(fā)是一家標(biāo)準(zhǔn)普爾500指數(shù)公司，總部位于加州圣何塞，分支機(jī)構(gòu)跨越全球各個(gè)國家和地區(qū)。有關(guān)諾發(fā)公司的更多信息，請?jiān)L問網(wǎng)站www.novellus.com。