射頻等離子工藝設備中的自動阻抗匹配技術
2020年電子技術應用第10期
趙英偉，張文雅，郝曉亮
中國電子科技集團公司第十三研究所，河北 石家莊050051
摘要： 介紹了射頻阻抗匹配的基本原理和常見的匹配網絡類型，以串并聯電容組成的Г型匹配網絡為例，利用史密斯圓圖，闡述了阻抗匹配的工作原理。介紹射頻等離子技術在微電子工藝設備中的應用。給出了自動匹配網絡的檢測電路、電機驅動電路和控制電路，提出了優化自動阻抗匹配能力的方法。
中圖分類號： TN405
文獻標識碼： A
DOI：10.16157/j.issn.0258-7998.200439
中文引用格式： 趙英偉，張文雅，郝曉亮. 射頻等離子工藝設備中的自動阻抗匹配技術[J].電子技術應用，2020，46(10)：61-63，78.
英文引用格式： Zhao Yingwei，Zhang Wenya，Hao Xiaoliang. The impedance automatch method in radiofrequency plasma processing equipment[J]. Application of Electronic Technique，2020，46(10)：61-63，78.
文獻標識碼： A
DOI：10.16157/j.issn.0258-7998.200439
中文引用格式： 趙英偉，張文雅，郝曉亮. 射頻等離子工藝設備中的自動阻抗匹配技術[J].電子技術應用，2020，46(10)：61-63，78.
英文引用格式： Zhao Yingwei，Zhang Wenya，Hao Xiaoliang. The impedance automatch method in radiofrequency plasma processing equipment[J]. Application of Electronic Technique，2020，46(10)：61-63，78.
The impedance automatch method in radiofrequency plasma processing equipment
Zhao Yingwei，Zhang Wenya，Hao Xiaoliang
The 13th Research Institute of China Electronics Technology Group Coporation，Shijiazhuang 050051，China
Abstract： The basic principle of RF impedance matching and some matching network types are introduced.A Г type matching network composed of series and parallel capacitors is taken as an example to explain the principle of inpedance matching by using Smith chart.The application of RF plasma technology in microelectronic process equipment is introduced.The detection circuit,motor drive circuit and control circuit are introduced.A method to optimize automatic matching ability is proposed.
Key words : plasma；automatch；RF；phase；magenitude
0 引言
等離子體被稱為物質的第四態。等離子體加工技術在薄膜制備、清洗等微電子工藝設備中有廣泛的應用。射頻經過匹配網絡后，加到真空室里面反應氣體電離產生等離子體。由于腔室壓力、氣體流量等工藝參數的變化，其等效負載阻抗會發生波動，造成阻抗失配，反射功率增大。反射功率會返回到射頻源內部，變成熱量損耗，也會在傳輸線上產生駐波高壓，容易損壞射頻源內部器件，嚴重時造成輝光不穩定，影響加工產品的性能。隨著技術進步和產品升級，在工藝上對等離子體的穩定性和阻抗匹配的快速性等要求越來越高，因此良好的自動阻抗匹配網絡顯得尤其重要。
本文詳細內容請下載:http://www.viuna.cn/resource/share/2000003022
作者信息:
趙英偉，張文雅，郝曉亮
(中國電子科技集團公司第十三研究所，河北 石家莊050051)
此內容為AET網站原創，未經授權禁止轉載。