來自復(fù)旦大學(xué)微電子學(xué)院的消息，該校周鵬團(tuán)隊針對具有重大需求的3－5納米節(jié)點(diǎn)晶體管技術(shù)，驗證了雙層溝道厚度分別為0．6 ／1．2納米的圍柵多橋溝道晶體管（GAA，Gate All Around），實現(xiàn)了高驅(qū)動電流和低泄漏電流的融合統(tǒng)一，為高性能低功耗電子器件的發(fā)展提供了新的技術(shù)途徑。
據(jù)悉，相關(guān)成果已經(jīng)在第66屆IEDM國際電子器件大會上在線發(fā)表。
報道提到，工藝制程提升到5nm節(jié)點(diǎn)以下后，傳統(tǒng)晶體管微縮提升性能難以為繼，需要做重大革新。于是GAA晶體管乘勢而起，它可實現(xiàn)更好的柵控能力和漏電控制。
此番周鵬團(tuán)隊設(shè)計并制備出超薄圍柵雙橋溝道晶體管，驅(qū)動電流與普通MoS2晶體管相比提升超過400％，室溫下可達(dá)到理想的亞閾值擺幅（60mV／dec），漏電流降低了兩個數(shù)量級。
據(jù)悉，GAA晶體管也被譯作“環(huán)繞柵極晶體管”，取代的是華人教授胡正明團(tuán)隊研制的FinFET（鰭式場效應(yīng)晶體管）。按照目前掌握的資料，三星打算從2022年投產(chǎn)的第一代3nm就引入GAA晶體管，臺積電略保守，3nm仍是FinFET，2nm開始啟用GAA。
另外，中芯國際梁孟松日前也披露，該公司的5nm和3nm的最關(guān)鍵、也是最艱巨的8大項技術(shù)也已經(jīng)有序展開， 只待EUV光刻機(jī)的到來，就可以進(jìn)入全面開發(fā)階段。
雙橋溝道晶體管示意圖及其性能圖
本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外，轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點(diǎn)。轉(zhuǎn)載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無法一一聯(lián)系確認(rèn)版權(quán)者。如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問題，請及時通過電子郵件或電話通知我們，以便迅速采取適當(dāng)措施，避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟(jì)損失。聯(lián)系電話：010-82306118；郵箱：aet@chinaaet.com。