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印度提交埃米級芯片議案入局芯片戰(zhàn)

2025-04-22
來源:快科技
關(guān)鍵詞: 1nm 芯片 印度

4月21日消息,印度聯(lián)合新聞社發(fā)布文章表示,印度頂尖研究機構(gòu)印度科學(xué)研究所(IISc)的30名科學(xué)家團隊聯(lián)合向政府提交了一份開發(fā)“埃級”芯片的議案,該芯片的尺寸遠小于目前生產(chǎn)的最小芯片。

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該報社表示,目前,半導(dǎo)體制造業(yè)以硅基技術(shù)為主,由美國、日本、韓國和中國臺灣等發(fā)達國家和地區(qū)引領(lǐng);而最小的芯片已經(jīng)發(fā)展到3nm的工藝水平,主要由三星、臺積電、英特爾等公司生產(chǎn),印度在半導(dǎo)體制造方面嚴重依賴外國企業(yè)。

據(jù)悉,在議案中,科學(xué)家團隊旨在開發(fā)一種名為“2D Materials”的技術(shù),該技術(shù)可使芯片尺寸縮小至目前全球生產(chǎn)的最小芯片尺寸的十分之一,相當(dāng)于1nm以下,并鞏固印度在半導(dǎo)體領(lǐng)域的領(lǐng)先地位。

2022年4月,IISc的科學(xué)家團隊曾提交過一份詳細的項目報告(DPR),該報告經(jīng)過修改后,于2024年10月再次提交。

DPR建議利用石墨烯和過渡金屬二硫化物(TMD)等超薄材料開發(fā)二維半導(dǎo)體,這些材料可以實現(xiàn)“埃級”芯片制造,比目前的納米級技術(shù)小得多。

目前,印度最大的半導(dǎo)體項目由塔塔電子與臺灣力積電合作設(shè)立,投資額達9100億盧比,該項目已獲批印度半導(dǎo)體計劃,并擁有政府50%的資金支持。而IISc此次牽頭的議案近要求印度政府在五年內(nèi)撥款50億盧比,金額相對較低。

“2D Materials”在全球引發(fā)廣泛關(guān)注,該報社表示,目前歐洲已投資超過10億美元(約合830億盧比),韓國投資超過3億盧比,中國和日本等國家也對基于“2D Materials”的半導(dǎo)體研究進行了大規(guī)模的投資,但金額并未公開。

印度有關(guān)官員指出,隨著傳統(tǒng)硅芯片已經(jīng)逼近極限,一些國家已經(jīng)在為后硅時代做準(zhǔn)備,全球科技企業(yè)也會將目光注意到“2D Materials”。


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